根據韓國媒體報導,三星電子預計於2026年底前,開始在美國德州泰勒市(Taylor)建造第二座半導體晶圓廠。同時,面對日益成長的AI客戶需求,三星計畫將60%至70%的記憶體產能分配給長期供應合約(LTA)。
三星晶圓代工策略行銷團隊負責人、副總經理Kang Seok-chae表示,德州泰勒一廠(Taylor Fab 1)預計於2026年內正式投產。而就在一廠投產後,三星將逐步擴大2奈米製程產能,並預計於2027年達成全面量產的目標。至於,泰勒二廠的商業化量產目標則設定在2030年。此外,由於客戶對1.4奈米製程技術的詢問度提高,三星正積極評估追加製造空間的可能性。
另外,在製程資源配置上,三星正持續將產能從成熟製程轉移至高毛利的先進製程。目前,8奈米與17奈米製程、CMOS影像感測器(CIS)以及嵌入式非揮發性記憶體(eNVM)需求持續強勁,且8奈米以下製程的產能利用率已接近滿載。Kang Seok-chae 指出,隨著產能利用率提高、良率改善及價格回升,晶圓代工業務的獲利能力將較2025年大幅改善,並有望在近期實現轉虧為盈。
至於,針對記憶體業務,隨著AI基礎建設投資加速,長期供應合約(LTA)的重要性顯著提升。三星記憶體策略行銷負責人Kim Jae-jun指出,三星已與全球五大資料中心客戶簽署LTA,並正與另外五家大型AI相關客戶進行最後談判。由於長約需求已超過三星目前的供應能力,三星決定將高達60%至70%的長期產能用於履行LTA承諾。
據了解,三星的LTA合約通常為期5年,並設有年度展延的滾動式更新機制。針對標準型記憶體產品,合約中包含最低價格條款,以降低市場低迷時的風險。此外,為加強合約約束力,合約規定了高額的前期預付款,目前三星已收到已簽署合約中約四分之一的預付款。
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